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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GM2000鋰電池鈷酸鋰漿料研磨分散機(jī)

    鋰電池鈷酸鋰漿料研磨分散機(jī)是鋰電正極制漿核心設(shè)備,集成研磨與分散功能。通過高速定轉(zhuǎn)子產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,破除鈷酸鋰及導(dǎo)電劑團(tuán)聚,將顆粒細(xì)化至微米級(jí)并均勻分散,解決傳統(tǒng)設(shè)備易結(jié)塊難題。設(shè)備可精準(zhǔn)控粒徑與粘度,適配高固含量漿料,助力提升電池容量與一致性,適配工業(yè)化量產(chǎn)需求。

    更新時(shí)間

    2025-10-30

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  • GRS2000藥物混懸液分散機(jī)

    藥物混懸液分散機(jī)是制藥領(lǐng)域制備混懸劑的專用設(shè)備。通過高速旋轉(zhuǎn)的定轉(zhuǎn)子產(chǎn)生強(qiáng)烈剪切、研磨力,打破難溶性藥物顆粒團(tuán)聚,將其細(xì)化并均勻分散于介質(zhì)中,有效減少沉降、提升穩(wěn)定性與生物利用度。設(shè)備采用衛(wèi)生級(jí)材質(zhì),易清潔,符合GMP標(biāo)準(zhǔn),適配實(shí)驗(yàn)室至工業(yè)化生產(chǎn)場景。

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    2025-10-30

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  • GMD2000硫酸鋇研磨分散機(jī)

    硫酸鋇研磨分散機(jī)是處理硫酸鋇粉體的專用設(shè)備,通過高剪切研磨與分散協(xié)同作用,破解粉體團(tuán)聚難題。?可將硫酸鋇細(xì)化至微米級(jí),實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布,提升其在涂料、塑料、醫(yī)藥等領(lǐng)域的分散性與遮蓋力。設(shè)備耐磨損、易清潔,適配不同工藝需求,保障下游產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。

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    2025-10-29

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  • GMD2000超細(xì)管線式研磨分散機(jī)

    超細(xì)管線式研磨分散機(jī)是連續(xù)化超細(xì)處理的核心設(shè)備,適配管道生產(chǎn)流程。通過多級(jí)定轉(zhuǎn)子高速剪切與研磨珠作用,將物料細(xì)化至0.5μm以下,實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布。設(shè)備無si角易清潔,支持24小時(shí)連續(xù)運(yùn)行,符合多行業(yè)潔凈標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于涂料、醫(yī)藥、納米材料等精密生產(chǎn)場景。

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    2025-10-29

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  • GMD2000石蠟粉研磨分散機(jī)

    石蠟粉研磨分散機(jī)是處理石蠟粉的專用設(shè)備,通過高剪切、研磨作用破解粉體團(tuán)聚。?它能將石蠟粉細(xì)化至均勻粒徑,實(shí)現(xiàn)窄分布,提升與其他物料的混合相容性,保障后續(xù)產(chǎn)品(如涂料、化妝品)的穩(wěn)定性與質(zhì)感。設(shè)備適配多種工藝,耐磨損易清潔,廣泛用于化工、日化等領(lǐng)域。

    更新時(shí)間

    2025-10-29

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  • GMD2000石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯NMP漿料研磨分散機(jī)是處理該漿料的專用設(shè)備,能破解石墨烯易團(tuán)聚難題。通過高剪切、研磨作用,將漿料顆粒細(xì)化并均勻分散,提升漿料導(dǎo)電性與穩(wěn)定性,適配不同濃度漿料需求。設(shè)備耐 NMP 腐蝕,符合工藝標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于新能源、電子等領(lǐng)域的石墨烯漿料制備。

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    2025-10-29

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  • GRS2000醫(yī)藥二氧化鈦分散機(jī)

    醫(yī)藥二氧化鈦分散機(jī)是處理藥用級(jí)二氧化鈦的專用設(shè)備,通過高剪切、超聲波等作用破解粉體團(tuán)聚。它能將顆粒細(xì)化至規(guī)定粒徑(0.2-0.5μm),實(shí)現(xiàn)窄粒徑分布,保障其作為藥用輔料的增白、遮光效果。設(shè)備符合醫(yī)藥衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn),廣泛用于片劑包衣、藥用油墨等生產(chǎn)場景。

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    2025-10-29

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  • GMD2000催化劑研磨分散機(jī)

    催化劑研磨分散機(jī),是用于催化劑制備的專用設(shè)備,通過剪切、沖擊、研磨作用處理催化劑物料。它能將催化劑顆粒細(xì)化并均勻分散,提升比表面積與反應(yīng)活性,保障催化效率穩(wěn)定。設(shè)備適配多種催化劑類型,可調(diào)節(jié)參數(shù)滿足不同工藝需求,廣泛應(yīng)用于化工、能源等領(lǐng)域的催化反應(yīng)體系。

    更新時(shí)間

    2025-10-29

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