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產(chǎn)品展示/ Product display

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納米核酸導向藥物均質(zhì)膠體磨

納米核酸導向藥物均質(zhì)膠體磨轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化分散的效果。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-09-06
  • 訪  問  量:2287
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詳細介紹

納米核酸導向藥物均質(zhì)膠體磨

許多核酸藥物目前在臨床應(yīng)用上**的難題就是在體內(nèi)易于被降解的問題,難以 到達靶點部位,這是本領(lǐng)域難以克服的技術(shù)難題,大大限制了其臨床應(yīng)用。

一種制備納米核酸導向藥物的方法,所述方法包括

(1)將C32粒子、導向物、核酸藥物混合分散,形成復(fù)合物;

(2)將(1)獲得的復(fù)合物進行聚乙二醇修飾,獲得納米核酸導向藥物。

在另一優(yōu)選例中,所述的導向物是多肽,且步驟⑴包括(a)將C32與導向物進行酯化反應(yīng),形成C32-導向物復(fù)合物;以及(b)將C32-導向物復(fù)合物與核酸藥物混合,形成C32-導向物-核酸藥物復(fù)合物。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,C32與導向物的摩爾比是1 (2_3);較佳地是 1 2.4。

在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的催化劑是S0427Si02。在另一優(yōu)選例中,步驟(a)中,酯化反應(yīng)的時間是4士2小時;較佳地是4士 1小時。在另一優(yōu)選例中,聚乙二醇修飾的方法是將C32-導向物_miRNA(較佳地溶于碳 酸鈉溶液)與過量的mPEG-SPA(較佳地溶于**中)反應(yīng)。在本發(fā)明的另一方面,提供所述的納米核酸導向藥物的用途,用于制備靶向治療 疾病的組合物。在本發(fā)明的另一方面,提供一種組合物,含有有效量的所述的納米核酸導向藥物;以及藥學上可接受的載體。本發(fā)明的其它方面由于本文的公開內(nèi)容,對本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言是顯而易見 的。

一層由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

納米核酸導向藥物均質(zhì)膠體磨

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